6月30日，园区企业联合微电子中心有限责任公司（以下简称：CUMEC公司）面向全球正式发布三套工艺PDK——130nm成套硅光工艺PDK、300nm氮化硅光电子工艺PDK、三维集成工艺PDK，技术再获“芯”突破。

建党100周年之际，联合微电子中心有限责任公司（简称CUMEC公司）面向全球发布三套工艺PDK——130nm成套硅光工艺PDK、300nm氮化硅光电子工艺PDK、三维集成工艺PDK，这是继去年5月发布180nm成套硅光工艺PDK之后，CUMEC在工艺平台建设和技术创新领域取得的又一重大突破，是公司全体员工坚守初心使命，以实际行动庆祝党的百年华诞的生动实践！

技术人员在硅基光电子实验室测试硅光芯片

此次系列PDK的发布，标志着CUMEC公司成为国内首个基于8英寸工艺线同时开放硅基光电子、异质异构三维集成等四套工艺的光电集成高端特色工艺平台，器件性能和工艺能力处于国内领先、国际先进水平，具备面向全球客户提供光电微系统解决方案的能力。

征途漫漫，唯有奋斗！CUMEC公司将矢志创新，砥砺奋进，勇攀高峰，对标国际一流建设开放高端特色工艺平台，不忘初心使命支撑科技自立自强，为国家集成电路发展突破瓶颈、重庆市建设西部（重庆）科学城和成渝双城经济圈做出更大贡献！